イオンスパッター Ion sputtering

EIKO IB-3

イオンスパッター Ion sputtering

概要

5Pa程度の低真空領域でグローディスチャージを起こさせて残留ガスをイオン化し、このガスイオンのエネルギーを利用して金属をスッパッターさせたり、試料のクリーニング、あるいはエッチングを行う装置。

装置の仕様・特色

電子顕微鏡用試料支持膜の親水処理、走査顕微鏡用試料への金属コーテイング等を行う。
詳細                 
https://www.okayama-u.ac.jp/user/crl/kiki2021/em/is.html

自己測定 依頼測定 学内 担当部局から連絡精算
設置年 1976
装置カテゴリ
適合分野 生物学系 医学系
管理部局 医歯薬学総合研究科
使用責任者

医学部
共同実験室
第1分室 分室長
大内 淑代
(内線7080)

拠点

共同利用について

利用にあたっての留意事項

共同実験室設置機器・設備の利用(要領)を参照。

学内
http://www.okayama-u.ac.jp/user/crl/main/riyou.html
学外
http://www.okayama-u.ac.jp/user/crl/gakugai/gakugairiyou.html

医学部共同実験室について詳細
http://www.okayama-u.ac.jp/user/crl/

http://www.okayama-u.ac.jp/user/crl/
費用負担

R3年度 使用料金
 (学内のみ)400 円/ times
       Hydrophilic treatment 100円/Times

共同実験室料金規定により徴収

学内限定
http://www.okayama-u.ac.jp/user/crl/gakunai/ryoukin.pdf
学外
http://www.okayama-u.ac.jp/user/crl/gakugai/gakugairyoukin.pdf

学内限定 http://www.okayama-u.ac.jp/user/crl/gakunai/ryoukin.pdf 学外 http://www.okayama-u.ac.jp/user/crl/gakugai/gakugairyoukin.pdf
自己測定利用法

説明が必要な方は事前にオペレータにご連絡ください。

管理責任者・監守者

【機器管理責任者】
 共同実験室第1分室分室長
 大内 淑代(内線 7080)
【監守者(オペレーター)】
 共同実験室
 浦田 晴生(内線 7470)

詳細情報 http://www.okayama-u.ac.jp/user/crl/
利用方法や利用規程 https://www.okayama-u.ac.jp/user/crl/main/riyou.html
  予約する

依頼測定について

依頼する

問い合わせ

問い合わせる