日本電子 ECA400WB

概要

・低周波ユニット:15N 以下の低周波数核の測定が可能 主な観測核:14N・15N・25Mg・33S・35Cl・43Ca・47Ti・49Ti・97Mo ・主な観測核:35Cl, 33S, 14N, 43Ca, 25Mg, 47Ti, 49Ti

※光照射NMRシステムの導入
【説明】
サンプルに波長265nm, 280nm, 365nm, 405nm, 420nm, 450nm, 565nmの光を照射しながら溶液NMR測定をすることが可能です。 通常のNMRサンプルチューブ内にマイクロチューブを差し込み二重管作成し、その内部に光ファイバーを通し光を照射します。 光照射によるサンプルの反応・経時変化などを測定することができます。

装置の仕様・特色

・固体プローブ
4mm JEOL HXMAS Probe 最大回転数：18kHz 測定温度：-100℃～150℃
5 mm Doty WL solid probe nospin 測定温度範囲：-10ºC - 150ºC
8 mm JEOL HXMAS probe（29Siバックグラウンドフリー） 最大回転数 ≤ 8 kHz 測定温度範囲：室温

・半固体プローブ
4 mm H/X FGMAS probe S/N比：1H ≥ 90:1 最大回転数 ≤ 9 kHz ( Kel-Fキャップ)、≤ 18 kHz (Vespelキャップ) 測定温度範囲： 室温 - 50ºC

・溶液プローブ
5 mm JEOL 40TH5AT/FG2WB Probe S/N比：1H ≥ 220:1 13C ≥ 180:1 測定温度範囲：室温 ～ 100 ºC

謝辞掲載のお願い

本装置で得られたデータを外部に出版する際は、下記のとおり謝辞の記載をお願いいたします。

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