高出力ピコ秒LD励起Nd:YAGレーザー

リトアニア国EKSPLA社製

高出力ピコ秒LD励起Nd:YAGレーザー
非公開

概要

ピコ秒のレーザーパルスを発生できる。

装置の仕様・特色

ピコ秒のパルスを発生できる、Nd:YAGレーザー。ただしレーザー源だけなので、測定系は自分で用意する必要がある。ゲート付きICCDとエシェル分光器は貸し出しできる。

問合せ先メールアドレス
eee0502@adm.okayama-u.ac.jp

謝辞掲載のお願い

本装置で得られたデータを外部に出版する際は、下記のとおり謝辞の記載をお願いいたします。

This work has been partly supported by Core-Facility at Okayama University(CFPOU IPM_495)
本研究はコアファシリティの支援を得て実施されました(CFPOU IPM_495)

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廃棄済
設置年 2011
CFPOU管理番号 IPM_495
機器種別
装置カテゴリ
適合分野 化学系 物理学系 地学系

共同利用について

機器サービス管理者
機器サービス副管理者

機器管理責任者:神崎正美(0858-43-3802)

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