リトアニア国EKSPLA社製

非公開
概要
ピコ秒のレーザーパルスを発生できる。
装置の仕様・特色
ピコ秒のパルスを発生できる、Nd:YAGレーザー。ただしレーザー源だけなので、測定系は自分で用意する必要がある。ゲート付きICCDとエシェル分光器は貸し出しできる。
問合せ先メールアドレス
eee0502@adm.okayama-u.ac.jp
謝辞掲載のお願い
本装置で得られたデータを外部に出版する際は、下記のとおり謝辞の記載をお願いいたします。
This work has been partly supported by Core-Facility at Okayama University(CFPOU IPM_495)

本研究はコアファシリティの支援を得て実施されました(CFPOU IPM_495)

本研究はコアファシリティの支援を得て実施されました(CFPOU IPM_495)
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廃棄済
設置年 | 2011 |
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CFPOU管理番号 | IPM_495 |
機器種別 | |
装置カテゴリ | |
適合分野 | 化学系 物理学系 地学系 |