旭商会・KAA-3
概要
高真空中(10-1～10-2 Pa)において、SiOxなどの酸化物材料を酸素ガスを導入しながら抵抗加熱により蒸発させることで、酸化物薄膜を作製することができる。半導体研究、ナノテクノロジー研究などに用いられる装置である。
装置の仕様・特色
ターボ分子ポンプ排気による高真空中(10-1～10-2 Pa)において、酸化物材料(主にSiOx)を酸素ガスを導入しながら抵抗加熱蒸着することができる。膜厚計と手動シャッターによる膜厚制御、および加熱水冷一体型基板ホルダによる基板の温度制御が可能である。
自己測定
学内
CFPOU精算
| 設置年 | 2015 |
|---|---|
| CFPOU管理番号 | DIA_636 |
| 機器種別 | |
| 装置カテゴリ | |
| 適合分野 | |
| 管理部局 | 自然生命科学研究支援センター |
| サポート職員 | 自然科学研究科 (工) |
| 拠点 | 自然生命科学研究支援センター 分析計測・極低温部門 分析計測分野 |
| 研究成果 | 岡山大学研究者プロファイル(Elsevier社Pure) |
共同利用について
| 利用にあたっての留意事項 |
使用希望者は、監守者の指示に従ってください。 http://dia.kikibun.okayama-u.ac.jp/equipments/view/636 |
|---|---|
| 自己測定料金 |
クリーンルーム全体で運営している。 |
| 自己測定利用法 |
監守者へ連絡し、測定方法をご相談ください。 |
| 機器サービス管理者 機器サービス副管理者 |
クリーンルームワーキンググループ |
| 利用方法 | http://dia.kikibun.okayama-u.ac.jp/files/upload/files/dia/kitei_riyouyoukou.pdf |