集束イオンビーム装置

日本電子㈱製

集束イオンビーム装置

概要

試料を、マイクロスケールからナノスケールに加工・切断しTEM試料等を作成する装置。

装置の仕様・特色

透過電子顕微鏡観察用試料を作成する。Gaイオン銃およびLaB6電子銃を備え、試料をSEM観察を行いながらイオンビーム加工を行うことができる。Gaイオンの最大加速電圧は30kVである。加工時に試料を保護するデポ銃を備えており、有機系およびタングステンの保護膜作成に対応する。

自己測定 依頼測定 学内 学外 担当部局から連絡精算
設置年 2009
CFPOU管理番号 IPM_328
機器種別
装置カテゴリ
適合分野 化学系
管理部局 惑星物質研究所
サポート職員

惑星物質研究所 小林 桂
(内線 3740)

拠点

10. 地球惑星科学研究拠点

共同利用について

利用にあたっての留意事項

使用に当たっては担当者の指導の下で使用すること。

http://www.misasa.okayama-u.ac.jp/jp/
自己測定料金

惑星物質研究所負担

その他

問合せ先メールアドレス
eee0502@adm.okayama-u.ac.jp

利用方法 http://www.misasa.okayama-u.ac.jp/jp/
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依頼測定について

利用にあたっての留意事項

CASTEM24Remoteの枠組みで依頼分析を受け付けています。詳細はお問い合わせください。

問合せ先メールアドレス
eee0502@adm.okayama-u.ac.jp

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問い合わせ

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