研究開発用マグネトロンスパッタリング装置

芝浦メカトロニクス(株)製CFS

研究開発用マグネトロンスパッタリング装置

概要

試料表面への金属や酸化物のスパッタリング成膜装置

装置の仕様・特色

スパッタリング成膜機。
数cm程度の比較的大きな試料に対して成膜を行う。
複数のターゲットを同時利用可能。
ガス置換可能(金属や酸化物、フッ化物などの利用可)

自己測定 依頼測定 学内 学外 担当部局から連絡精算
設置年 2010
CFPOU管理番号 IPM_330
機器種別
装置カテゴリ
適合分野 物理学系
管理部局 惑星物質研究所
サポート職員

惑星物質研究所 芳野極
(内線 3737)

拠点

10. 地球惑星科学研究拠点

共同利用について

利用にあたっての留意事項

使用に当たっては担当者の指導の下で使用すること。

http://www.misasa.okayama-u.ac.jp/jp/
自己測定料金

惑星物質研究所負担

その他

問合せ先メールアドレス
eee0502@adm.okayama-u.ac.jp

利用方法 http://www.misasa.okayama-u.ac.jp/jp/
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依頼測定について

利用にあたっての留意事項

問合せ先メールアドレス
eee0502@adm.okayama-u.ac.jp

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