JIB-4500, EDS, EBSP(使用不可)

概要

FIB加工,サンプリング,組成分析 等(結晶方位解析は使用不可)　

装置の仕様・特色

JIB-4500　複合ビーム加工観察装置
FIB：Gaイオン（加速電圧：1～30kV）
　　　　倍率：×30～300,00
　　　　イオン像分解能：5nm（30kV時）
　　　　加工形状：矩形，ライン，スポット，ビットマップ
SEM：LaB6（加速電圧：0.3～30kV）
　　　　倍率：×5～300,000
　　　　分解能：2.5nm（30kV時）
　　　　反射電子検出器（BEI）
デポGun（C，W）　保護膜の作製，接着
オムニプローブシステム　マイクロ試料のピックアップ
チャンバースコープ（CCD）
Oxford　Energy250 INCAx-act（EDS）Be～Pu
Oxford　NordlysS　（EBSP）